硅單晶微電子工業(yè)用的水處理設(shè)備

文章作者: 宏森環(huán)保

 　　硅單晶是一種可用于制作集成電路和半導(dǎo)體器件等的半導(dǎo)體材料，屬于非金屬元素，對于探測器級硅單晶、電路級硅單晶等電力電子器件及大功率晶體管都是可將會用到硅單晶，在進(jìn)行微電子工業(yè)的加工過程中需要用到一定要求的純水，如工業(yè)純水的水質(zhì)要求沒有達(dá)到要求則會對產(chǎn)品的使用造成一定的影響，下面介紹關(guān)于硅單晶微電子工業(yè)用的水處理設(shè)備。

　　該純水設(shè)備可根根電子工業(yè)對于純水的水質(zhì)要求進(jìn)行劃分，純水水質(zhì)電阻率細(xì)分到0.5MΩ.cm、2MΩ.cm、10MΩ.cm、15MΩ.cm、18MΩ.cm、18.2MΩ.cm等之間。

　　電子純水處理設(shè)備由預(yù)處理系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)等結(jié)構(gòu)構(gòu)成主要設(shè)備，其中預(yù)處理系統(tǒng)可根據(jù)當(dāng)?shù)氐脑|(zhì)選擇采用鈉離子軟化器、精密過濾器、多介質(zhì)過濾器、活性碳過濾器等工藝。

　　水處理設(shè)備根據(jù)出水水質(zhì)分為離子交換樹脂、反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備結(jié)合、反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備結(jié)合三種主要的水處理工藝。

　　硅單晶微電子離子交換技術(shù)工藝流程：進(jìn)水原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水對象。

　　采用反滲透技術(shù)作為預(yù)處理工藝，后續(xù)再采用離子交換技術(shù)，優(yōu)勢在于離子設(shè)備再生周期相對要長而且在耗費(fèi)的酸堿方面比單純采用離子樹脂的方式要少很多。

　　以上是對于微電子工業(yè)用的水處理設(shè)備采用的水處理工藝中的一種，如想了解其他的水處理工藝流程可到宏森環(huán)保進(jìn)行詳情的方案查詢。